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0从现在知道的信息来看，应该还是ARM架构，除了ARM也没什么适合移动端的新架构。
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在芯片制造领域，光刻机是关键设备，并且其制造精度决定了芯片制程水平。今年台积电与三星都在上线3nm工艺的同时，也在为2nm工艺进行设备储备，然而2nm工艺对光刻机的需求更高。ASML即将在年底推出的新款EUV光刻机，将会成为实现2nm工艺制造的主要设备。
ASML是唯一能量产EUV光刻机的公司，而且迭代了多次，主要是提升能效及产能，目前最新的型号是NXE:3600D，NXE:3800E计划是年底出货，进一步降低EUV光刻的成本。
NXE:3800E光刻机的曝光能力将达到30mJ/cm2，WPH每小时产能大约是195片晶圆，后续还会提升到220片晶圆/小时，产能比当前型号高出30%以上。
在售价方面，由于ASML的唯一性，新款EUV光刻机恐怕会卖到10亿元以上。并且你还别嫌贵，未来的高NA孔径EUV光刻机会更贵，达到30亿左右也不是无稽之谈。
